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第16回　JICC洗浄技術フォーラム 2012
−持続可能な洗浄技術の未来を目指して−
JICC Cleaning Technology Forum
主催：日本産業洗浄協議会　　　　特別協力：日刊工業新聞社
日時 平成24年（2012年）10月18日（木） 10:00 〜 17:00
会場 東京ビッグサイト　会議棟 ６階　605会議室（定員：１２０名）　
東京都江東区有明3-21-1
（りんかい線：国際展示場駅下車　徒歩５分）
（ゆりかもめ：国際展示場正門駅下車　すぐ）

連絡先:日本産業洗浄協議会事務局
TEL:03(3453)8165
フォーラム
（開会挨拶・
午前特別講演）
（午前）　司会： 守田章治　潟gクヤマ、 　　　 　澤田　勉　大和化学工業
開会挨拶：
土井潤一　日本産業洗浄協議会 会長　大和化学工業梶@代表取締役社長　
 10:00〜10:05
特別講演
  「電解水による殺菌および脱脂洗浄について」
澄田康光　オルガノ梶@開発センター第３開発部　係長
 10:05〜10:45
特別講演
  「スマートフォンに求められる洗浄技術のトレンド」
前野純一　荒川化学工業梶@電子材料事業部　営業部付部長
10:45〜11:25

洗浄総合展

午後特別講演
　根岸博士　特別講演（主催：日刊工業新聞社）　会場：会議棟１階　レセプションホールＡ
特別講演　「２１世紀の課題を化学の視点から語る
　　　　　　　　　　　　　　〜　環境・食料・エネルギー　〜」

根岸　英一　博士
　　　　　　2010年ノーベル化学賞受賞　パデュー大学特別教授
 13:00〜14:00

フォーラム
（技術発表　
[午後]）
（午後）　司会： 山本保夫 ｸﾛﾛｶｰﾎﾞﾝ衛生協会、 前野純一　荒川化学工業
「中国の水資源環境と工業廃水」
長谷川雅史　活ｮリサーチセンター　主席研究員
14:30〜15:05
「地球環境対応バートレルR 新洗浄剤について」
 　　〇菊地秀明　三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝ ﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ梶@ﾃｸﾆｶﾙｾﾝﾀｰ　主査
伊藤未希　三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝ ﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ梶@ﾃｸﾆｶﾙｾﾝﾀｰ　研究員
 15:05〜15:40
   （休憩）
 15:40〜15:50
「ケンテックＰＣＳの新しい発展　−アルミ切粉のリサイクル−」
中矢圭一　潟Pンテック　代表取締役社長
 15:50〜16:25
「デジタル制御による最適超音波洗浄」
渋谷信長 本多電子梶@産業機器事業部　課長
 16:25〜17:00

フォーラム聴講料（テキスト代を含む） 　会員 6,000円／人　、　非会員 10,000円／人

（お申込みを受付しましたら請求書をお送りしますので、
　指定口座にお払込み下さい。）
募集人員 　１２０名（定員になり次第締め切ります）
申し込み先 　日本産業洗浄協議会　事務局
FAX　03-3453-8167
〒105-0014
東京都港区芝2-10-4（電巧社ビル5F）
申し込み期限 　平成24年（2012年）10月10日（水）
　（受付時間）月〜金曜日　9:00〜17:00（ただし祝祭日を除く）

　★　フォーラム聴講をご希望の方は、申込書用紙を印刷して、日本産業洗浄協議会　事務局宛へ
　　　　ＦＡＸ（０３−３４５３−８１６７）で申込みをしてください。
　★　メールの場合は、記入した申込用紙を添付して　[email protected]　宛お送り下さい。

　　　（お申込みを受付しましたら請求書をお送りしますので、指定口座にお払込み下さい。）

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