日本産業洗浄協議会（産洗協）「JICC洗浄技術フォーラム」

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「JICC洗浄技術フォーラム」のプログラム（洗浄技術バックナンバー目次）

第24回JICC洗浄技術フォーラム2021

令和3年（2021年）12月2日（木）

東京ビッグサイト　会議棟６０５号室, ６０６号室

特別講演：
「爆裂成長の半導体はひとり勝ち・１００兆円の巨大市場構築」
株式会社　産業タイムズ社　代表取締役会長、一般社団法人　日本電子デバイス産業協会　副会長　泉谷　渉氏

招待講演：
「中国VOC規制の概要」 SGSジャパン㈱　C&P Connectivity 化学物質管理　技術顧問　大内　幸弘氏

技術発表：

「タクトタイム短縮への挑戦と、洗浄機業界のDX対応について」森合精機㈱装置事業部　開発課主任　洗浄マイスター　　雪島　良太氏
「HFO(AMOLEA®　 AS-300)」 AGC㈱　化学品カンパニー　機能化学品事業本部　先端素材事業部　溶剤グループ　花田　毅氏
「塩素系溶剤の適正使用と法規制概要」　クロロカーボン衛生協会　事務局長兼技術部長守田章治氏
「ワンバス式フッ素系洗浄剤用洗浄機「FLOVA」」（株）クリンビー　代表取締役　社長岡村和彦氏
「フッ素系洗浄剤用洗浄装置「NEUF(ノイフ)」について」ウィルヴィー（株）　取締役大作　玲子氏
「技術発表：大気圧プラズマによるドライ洗浄と表面処理への適用事例」日本プラズマトリート㈱　　大阪支店　田中　智浩氏

第23回JICC洗浄技術フォーラム2019

平成31年（2019年）9月5日（木）

パシフィコ横浜　アネックスホールF203･204会議室

特別講演：
「激動の時代を迎えた電子デバイス産業の未来構図」一般社団法人　日本電子デバイス産業協会　副会長　　泉谷　渉氏

招待講演：
「時計メーカーから総合精密加工メーカーへ」シチズンファインデバイス株式会社　代表取締役社長　近藤　隆造氏

技術発表：

「難しいフラックス洗浄に挑む　MPC洗浄の有用性」ゼストロンジャパン株式会社　チーフアプリケーションエンジニア　加納裕也氏
「洗浄専門業における洗浄装置・洗浄事例と品質管理」　有限会社　本間産業　専務取締役　本間　尚貴氏
「塩素系溶剤の適正使用と法規制概要」　クロロカーボン衛生協会　事務局長兼技術部長守田章治氏
「水系洗浄機の液汚染度と付着油分の測定」森合精機株式会社　開発課　課長　松村繁廣氏
「フッ素系洗浄機3機種「縦型ﾜﾝﾊﾞｽ式FISTA」「ﾌﾟｯｼｬｰ搬送式2槽式FISTA」「ﾌｯ素系多槽式省溶剤洗浄機」の紹介」
株式会社クリンビー　代表取締役社長　岡村　和彦氏
「次世代フッ素系溶剤AMOLEA®　AS-300のご紹介」
ＡＧＣ株式会社　化学品カンパニー機能化学品事業本部フロロケミカルズ事業部溶剤グループ　マネージャー　花田　毅氏

第22回JICC洗浄技術フォーラム2018

平成30年（2018年）10月18日（木）

東京ビッグサイト会議棟６０５号室

招待講演：
「自動車産業の最新動向」　日本自動車部品工業会　技術担当顧問松島正秀氏

技術発表：

「ノンフロン系洗浄剤エルノバV5」　㈱トクヤマMETEL 技術開発部部長谷田部修氏
「水系洗浄乾燥機　スマートスピン」　森合精機㈱　装置事業部　開発課雪島良太氏
「塩素系溶剤の適正使用と法規制概要」　クロロカーボン衛生協会　事務局長兼技術部長守田章治氏
「非引火性炭化水素系洗浄剤及び洗浄システム」　
東ソー㈱　環境薬剤部　洗浄技術室　室長岸　重美氏（株）クリンビー　代表取締役　社長岡村和彦氏
「新フロン液の拡散防止革命」ジャパン・フィールド㈱　システム部　取締役営業技術部長　泉田義彦氏
「NSクリーンWエマル洗浄について」　
(株)ENEOSサンエナジー　化学品事業本部　NSクリーン部　NS技術グループグループマネージャー山内辰也氏

第21回JICC洗浄技術フォーラム2017

平成29年（2017年）11月30日（木）

東京ビッグサイト東8ホール「セミナールーム」

特別講演：
午後特別講演「新価値を創造するオープンイノベーション」牛尾隆一株式会社村田製作所新規事業推進部ｵｰﾌﾟﾝｲﾉﾍﾞｰｼｮﾝ推進ﾁｰﾑﾏﾈｰｼﾞｬｰ
午後招待講演「モントリオール議定書キガリ改正を踏まえたHFC規制の動向」大谷一真経済産業省産業製造局化学物質管理課オゾン層保護等推進室課長補佐

技術発表：

「環境にやさしいレーザクリーニング装置【イレーザー®】」○高島康文東成エレクトロビーム株式会社メカトロニクス事業部兼務技術部取締役部長
「新フッ素系溶剤AMOLEA®のご紹介」 ○花田毅旭硝子株式会社化学品カンパニー機能化学品事業本部技術グループマネージャー
「ノンハロゲン非引火性洗浄剤『HA－CX15』について」 ○氏田浩二東ソー株式会社環境薬剤部洗浄技術室開発グループグループリーダー
「新型フッ素系洗浄機FISTA」＆「エマルジョン洗浄機」 ○岡村和彦株式会社クリンビー代表取締役社長
「環境対応型次世代フッ素系洗浄剤」 ○加留部大輔ダイキン工業㈱化学事業部商品開発部研究員

第20回JICC洗浄技術フォーラム2016

平成28年（2016年）10月20日（木）

東京ビッグサイト 6階 605号室

特別講演：
午後特別講演「宇宙の使い方〜航空宇宙技術が切り拓くモノづくりの未来」〜人工衛星やロケットなどJAXA技術の民間転用と民間技術の宇宙展用などの可能性具体例〜松浦直人宇宙航空研究開発機構（JAXA）新事業促進部長
午後招待講演「労働安全衛生法の意義とリスクアセスメントの重要性」鈴木一行厚生労働省業務受託機関テクノヒル㈱代表取締役

技術発表：

「揺動チャンバー洗浄機」○松村繁廣森合精機株式会社装置事業部開発課長
省エネルギー化対応水系洗浄剤ニッカクリヤー rSP-4500」 ○中島順市日華化学株式会社特殊化学品本部研究開発部
「油分濃度計測システム AIS-ROMⅠ及びⅡ」 ○小笠原和久アクトファイブ株式会社技術課
「高乾燥、無臭タイプの炭化水素洗浄剤ダフニーアルファクリーナーMXについて」○城田雄亮出光興産株式会社潤滑油二部潤滑技術二課
「究極の省溶剤新型フッ素系洗浄装置 FISTA」 ○岡村和彦株式会社クリンビー代表取締役社長
「フッ素系溶剤の現状と今後の展望について」○花田毅旭硝子株式会社化学品カンパニー開発部千葉研究所機能商品開発室

第19回JICC洗浄技術フォーラム2015

平成27年（2015年）12月3日（木）

東京ビッグサイト 6階 608号室

特別講演：
午後特別講演「航空機部品などの加工・造形の最新トレンド〜難燃材の切削・洗浄からAM（3Dプリンティング）技術まで〜笹原弘之東京農工大学大学院先端機械システム部門教授
午後招待講演「マイクロバブル流による洗浄過程の可視化と機構」天谷賢児群馬大学大学院理工学府教授知能機械創製部門

技術発表：

「小型基盤の洗浄品質の常識を変える」○坂本昌隆並木精密宝石㈱ MJC技術研究所開発マーケティング
ベーパーゾーンがなくても、溶剤洗浄ができる『グリーンベーパー洗浄機』について」 ○泉田義彦ジャパンフィールド㈱システム部取締役営業技術部長
「新型ワンパス式真空洗浄乾燥器『HEARVY』について」 ○岡村和彦㈱クリンビー代表取締役社長
「次世代超純水向け酸化性物質除去触媒『オルデトックス』について」○林佳史オルガノ㈱開発センター新領域ブループ
「炭化水素系マイクロエマルション洗浄剤『NSクリーンMタイプ』について」○山内達也 JX日鉱日石ｴﾈﾙｷﾞｰ㈱機能化学品ｶﾝﾊﾟﾆｰ工業用洗浄剤事業ﾕﾆｯﾄ工業用洗浄剤事業ｸﾞﾙｰﾌﾟ担当ﾏﾈｰｼﾞｬｰ
「一液型洗浄剤『パインアルファST-251EVA』について」○井内洋介荒川化学工業㈱電子材料事業部研究開発第二部研究院

第18回JICC洗浄技術フォーラム2014

平成26年（2014年）10月16日（木）

東京ビッグサイト 6階 605号室

特別講演：
午後特別講演「これからの化学物質リスク管理に求められること」中西準子　（独）産業技術総合研究所　フェロー　工学博士）
午後特別講演「鉄道車輌の洗浄及び産業洗浄の標準化について」渡邉朝紀　東京工業大学大学院理工学研究科　特任教授

技術発表：

「次世代フッ素系洗浄への取り組みについて」○花田　毅　旭硝子㈱　化学品ｶﾝﾊﾟﾆｰ　開発部機能商品開発室　ガス溶剤ｸﾞﾙｰﾌﾟ　ﾘｰﾀﾞｰ
「産業用洗浄装置と清浄度測定について」 ○野口浩二　森合精機㈱　装置事業部　生産部　次長
「次世代ノンハロゲン非引火性洗浄剤について」○岸　重美　東ソー㈱　有機化成品事業部環境薬剤部　洗浄剤技術ｸﾞﾙｰﾌﾟ　ﾘｰﾀﾞｰ
「ダイナミックセルを利用した新剥離洗浄剤」○野田直喜　JNC石油化学㈱　市原研究所　主務
「塩化メチレンの応用新製品　TALS-1の可能性」○矢田部修　㈱トクヤマ　特殊品部門特殊品開発グループ
「水系洗浄機ー直振動式洗浄機及び超精密濾過装置について」○冨原常生　東製㈱　特許製品販売促進室　洗浄ｸﾞﾙｰﾌﾟ　ﾏﾈｰｼﾞｬｰ

第17回JICC洗浄技術フォーラム2013

平成25年（2013年） 9月26日（木）

東京ビッグサイト 6階 606号室

特別講演：
午前特別講演「超高速蒸気流によるエコ洗浄技術」刑部真弘　東京海洋大学大学院海洋工学系　教授　工学博士
午後特別講演「微細気泡を活用した洗浄技術」尾上　薫　千葉工業大学　工学部　教授　工学博士

技術発表：

「環境適応型ドロップイン溶剤の提案　－HCFC全廃に向けて－」　○山本幸一　セントラル硝子㈱　化成品営業部　ﾌﾙｵﾛｶｰﾎﾞﾝ推進ｸﾞﾙｰﾌﾟ　課長
「洗浄における省エネルギー・省コストのノウハウ概説」○前野純一　日本産業洗浄協議会　事業推進委員長
「炭化水素系　ワンパス式真空洗浄乾燥機」○岡村和彦　㈱クリンビー　代表取締役社長
「環境・人体に優しい水溶性洗浄剤　Wｸﾘｰﾅｰｼﾘｰｽﾞの開発と実用性」○田巻匡基出光興産㈱　営業研究所　加工油ｸﾞﾙｰﾌﾟ　工学博士

第16回JICC洗浄技術フォーラム2012

平成24年（2012年）10月18日（木）

東京ビッグサイト 6階 605号室

特別講演：
午前特別講演「電解水による殺菌および脱脂洗浄について」澄田康光　オルガノ㈱　開発センター第3開発部　係長
午前特別講演「スマートフォンに求められる洗浄技術のトレンド」前野純一　荒川化学工業㈱　電子材料事業部　営業部付部長
午後特別講演「21世紀の課題を化学の視点から語る〜環境・食料・エネルギー〜」根岸英一博士　2010年ノーベル化学賞受賞　パデュー大学特別教授

技術発表：

「中国の水資源環境と工業廃水」　○長谷川雅史　㈱旭リサーチセンター　主席研究員
「地球環境対応バートレルâ新洗浄剤について」○菊地秀明　三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　ﾃｸﾆｶﾙｾﾝﾀｰ　主査　伊藤未希　三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　ﾃｸﾆｶﾙｾﾝﾀｰ　研究員
「ケンテックPCSの新しい発展　－アルミ切粉のリサイクル－」○中矢圭一　㈱ケンテック　代表取締役社長
「デジタル制御による最適超音波洗浄」○渋谷信長本多電子㈱　産業機器事業部　課長

第15回JICC洗浄技術フォーラム2011

平成23年（2011年）9月1日（木）

東京ビッグサイト 6階 607号室

特別講演：
午前特別講演「EVABAT－（VOC排出抑制技術）効果と経済性ｼﾐｭﾚｰｼｮﾝ評価－」土井潤一　日本産業洗浄協議会　副会長、大和化学工業㈱　代表取締役社長
午後特別講演「湿り蒸気だけで油分を洗い流すエコ洗浄技術」刑部昌弘　東京海洋大学海洋工学部海洋電子機械工学科　教授　工学博士

技術発表：

「新洗浄剤パートレルâ の特徴」 ○菊池秀明、伊藤末希三井・デュポンフロロケミカル㈱
「太陽電池洗浄への超音波の適用」 ○副島潤一郎㈱カイジョー
「液晶基板対応の洗浄技術」○廣瀬治道芝浦メカトロニクス㈱
「部品洗浄装置への産業ロボットの適用」○松村繁廣森合精機㈱
「フッソ系洗浄剤を用いた光学レンズの乾燥技術」○津崎真彰旭硝子㈱
「真空洗浄技術」○岡村和彦㈱クリン・ビー
「LED部品の最新洗浄技術」○前野純一、田中俊荒川化学工業㈱

第14回JICC洗浄技術フォーラム2010

平成22年（2010年）10月14日（木）

東京ビッグサイト 6階 605号室

特別講演：
午前特別講演「現場の特徴に基づくVOC排出抑制対策の導出システム」菊池康紀東京大学大学院工学系研究科化学システム専攻助教、博士（工学）
午後特別講演「物理洗浄による洗浄剤削減の試み」真田俊之静岡大学工学部助教、博士（工学）

技術発表：

「今、なぜ環境経営なのか？」○木越義廣富士ゼロックス㈱
「産業におけるﾌｯ素系洗浄」○斉田武彰新オオツカ㈱
「アルカリ性電解水の生成と電解条件」○古口塁ｱﾏﾉ･ｴｺ･ﾃｸﾉﾛｼﾞｰ㈱
「IPA置換乾燥や熱風乾燥に代わる精密水切り乾燥方式」○広瀬勝範㈱ソルベックス
「新しい超音波（測定、解析、制御）技術」斉木和幸超音波システム研究所
「水系洗浄システムにおける排水低減装置」○時田康之㈱エー・エス・ケイ
「ハロゲンフリーはんだ対応洗浄システム」○前野純一荒川化学工業㈱

第13回JICC洗浄技術フォーラム2009

平成21年（2009年）9月17日（木）

東京ビッグサイト 6階 607号室

特別講演：
午前特別講演「産業洗浄剤の選択のためのリスク評価手法〜リスクトレードオフを乗り越えるために〜」岸本充生 (独)産業技術総合研究所安全科学研究部門研究グループ長
午後特別講演「液体の水クラスターに関する誤解について」天羽優子山形大学理学部物質生命化学科准教授博士（医学）博士（理学）

技術発表：

「洗浄効果に及ぼす超音波周波数および溶存気体(酸素、水素、窒素）濃度、水深、温度依存性」○高田誠、岡野勝一、今関康博㈱カイジョー
「水洗浄（純水）におけるウォーターマークとブリスター防止策」鈴木厚生伸栄化学産業㈱
「工業洗浄用電解水の基本構造と設計手法について」○峠有利子アマノ㈱、古口塁ｱﾏﾉ･ｴｺ･ﾃｸﾉﾛｼﾞｰ㈱
「機能水としてのアルカリイオン水の可能性」○江口春彦、大坪正人日伸精機㈱
「フッ素系洗浄剤エルノバV汚れ分離システムの特性」○大谷哲也旭化成ｹﾐｶﾙｽﾞ㈱
「自動車･産業機械部品生産工程における無洗浄化と気化性防錆剤」○植田篤斎、福岡重範共栄社化学㈱

第12回JICC洗浄技術フォーラム2008

平成20年（2008年）10月2日（木）

東京ビッグサイト 6階 606号室

特別講演：
午前特別講演「産業洗浄技術のさらなる発展のために」平尾雅彦東京大学大学院工学系研究科化学システム工学教授工学博士
午後特別講演「エレクトロニクス実装における洗浄技術の動向と課題」前野純一荒川化学工業㈱機能材料事業部企画グループリーダー

技術発表：

「VOC排出抑制・技術マニュアルと環境対策事例集」新井喜博㈱旭リサーチセンター
「洗浄工程におけるVOC排出抑制の考え方と対策手法」田中将博㈱モリカワ
「ノンハロゲン系抽出溶剤HC-UV45による被洗浄物の清浄度評価」○岩部一宏東ソー㈱、柳川敬太㈱デンソー
「電気分解によって得られる水溶液の特性とその作用」峠有利子、古口塁アマノ㈱
「3Dマルチノズルの洗浄効果について」○三嶋学、杉浦智和ファインマシ-ンカタオカ㈱
「洗浄および表面処理糟底部のスラッジ、切粉を無人清掃」○内野正俊、泉田義彦、弓削忠士ジャパン・フィールド㈱

第11回JICC洗浄技術フォーラム

平成19年（2007年）9月13日（木）

東京ビッグサイト 6階 605号室

特別講演：
午前特別講演「化学工業における環境問題と企業経営」瀬田重敏東京農工大学大学院技術経営研究科客員教授博士（学術）
午後特別講演「先端半導体デバイスの超精密洗浄とナノ構造制御」森永均（株）フジミインコーポレーデッド研究開発センター部長工学博士

技術発表：

「VOC排出抑制のための定量実験に基づく洗浄装置モデル」菊池康紀東京大学大学院（独）日本学術振興会特別研究員
「VOC排出抑制・そのエンドオブパイプ技術」土井潤一大和化学工業㈱
「フッ素系洗浄剤エルノバ V2による蒸気洗浄の特長」○小林博司松本省慈旭化成ケミカルズ㈱
「水系洗浄における排水削減の切り札！“送風式蒸発器”」時田康之㈱エー・エス・ケー
「液晶・プリント基板等のミスト洗浄用強打力2流体ノズル」○権藤政則矢口美帆㈱いけうち
「自動車部品の洗浄と洗浄測定」○松村繁廣森合主税森合精機㈱

第10回JICC洗浄技術フォーラム

平成17年（2005年）9月1日（木）

東京ビッグサイト　会議棟 1F 102号室

特別講演：

「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」安達徹経済産業省化学物質管理課オゾン層保護等推進室長
「化学物質自主管理とVOC対策」獅山有邦経済産業省化学物質管理課化学物質リスク評価室長
「新しい環境経営・支援システム“エコステージ”のJALグループにおける実践効果」木越義廣富士ゼロックス㈱松元泰志㈱日本航空菅本進一㈱JALシミュレーターエンジニアリング

技術発表：

「VOC温暖化などの規制に対応する洗浄・水切り装置」中矢圭一㈲ケンテック
「光学部品洗浄装置」 ○大和田達郎滝下和弘立幅義人島田理化工業㈱
「HCFCと同等以下のランニングコストを実現した“エルノバV2”の開発」松本省慈旭化成ケミカルズ㈱
「環境特性・不燃性・高洗浄力を兼ね備えた画期的洗浄剤“ゼオローラHG10”」木山晴之日本ゼオン㈱
「旨い水と除菌効果」 ○山地信幸松澤慎二松澤皓三郎セパレーターシステム工業㈱

第9回JICC洗浄技術フォーラム

平成16年（2004年）9月30日（木）

東京ビッグサイト　会議棟 1F 102号室

特別講演：

「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」松尾武敏経済産業省化学物質管理課課長補佐
「化学物質の管理」村越正毅経済産業省化学物質管理課課長補佐（化学物質評価企画担当）
「最適な洗浄技術を求めて〜汚れるということとは〜」角田光雄文化女子大学服装学部教授

技術発表：

「微細気泡を用いた溶剤レス洗浄技術」 ○宮本誠上山智嗣三菱電機㈱、園田治毅島田理化工業㈱
「テルペン系洗浄剤EC－7Rを用いた水系フラックス洗浄システムについて」梅木義彦東光技研工業㈱
「バートレルâ洗浄剤の特徴と洗浄事例」 →要旨No.53 菊地秀明三井・デュポンフロロケミカル㈱
「水系洗浄剤の高機能化－ドライ洗浄の用途と有効性－」 →要旨No.52 ○篠原明、藤田雄太、三宅博ライオン㈱
「旨い水、洗浄力のある水」 ○山地信幸、松澤慎二、松澤皓三郎セパレーターシステム工業㈱

第8回JICC洗浄技術フォーラム2003

平成15年（2003年）9月11日（木）

東京ビッグサイト　会議棟　6F　605/606号室

特別講演：

「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」安達　徹経済産業省　製造産業局オゾン層保護等推進室室長
「産業洗浄をとりまく環境課題」　→要旨No.44 竹下宗一㈱ダイヤリサーチマーテック
「化学物質リスク削減のためのEVABAT体系の確立」渕野哲郎東京工業大学大学院理工学研究科化学工学助教授

技術発表Ⅰ：

「水系洗浄と炭化水素系洗浄の乾燥を融合した真空洗浄乾燥機」堂元雅洋㈱アクアテック
「逆洗時に完全洗浄可能なフィルターシステム」加藤介重㈱ニクニ
「フッ素系溶剤洗浄装置」　→要旨No.45 寺内育朗新オオツカ㈱
「すべての溶剤が使える密閉洗浄装置・ケンテックPCS」中矢圭一 (有)ケンテック
「電解水の謎解き一手法」→要旨No.43 ○山地信幸、村田裕康㈱三社電機製作所

技術発表Ⅱ：

「水と反応する素材を使用した電子部品の水系洗浄技術」前野純一荒川化学工業㈱
「臭素系洗浄剤『アブゾール』の洗浄システム」 ○倉林努、服部祐一、射場ひろみアルベマール日本㈱
「クリンベスト洗浄機nPB他の代替溶剤の使用実例」森口　朗タイセイクリンケミカル㈱
「バートレルâ洗浄剤の優位性と洗浄事例」→要旨No.42 菊地秀明三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱
「Novecä HFEの洗浄システム」 ○本村繁憲、佐々木良一、安藤伸明住友スリーエム㈱

第7回JICC洗浄技術フォーラム2002

平成14年（2002年）9月26日（木）

東京ビッグサイト　会議棟 1F 102号室

特別講演：

「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」掛江浩一郎　　経済産業省　製造産業局オゾン層保護等推進室室長
「化学物質管理促進法の現状と課題」栗原和夫　　経済産業省　製造産業局化学物質管理課リスク評価室長
「塩素系溶剤の現状と課題－クロロカーボン衛生協会の取り組み－」　→要旨No.32 山下俊一クロロカーボン衛生協会　技術部長
「産業技術総合研究所が目指すもの」山辺正顕　独立行政法人産業技術総合研究所フッソ系等温暖化物質対策テクロジー研究センター長

技術発表Ⅰ：

「地球環境にやさしいNovecä HFEを使用した洗浄システムの紹介」 →要旨No.33 ○安藤伸明薄井孝史住友スリーエム(株)
「節水型枚葉式超音波洗浄装置」 →要旨No.34 岡野勝一 (株)カイジョー
「フッ素系洗浄剤ｾﾞｵﾛｰﾗHｼﾘｰｽﾞと炭化水素系洗浄剤ｾﾞｵﾝｿﾙﾌﾞCP-10の洗浄ｼｽﾃﾑ」 →要旨No.35 ○大槻記靖木山晴之信夫雄二日本ゼオン(株)
「高溶解性洗浄剤NSｸﾘｰﾝ100RとEMｸﾘｰﾝの洗浄事例」 →要旨No.36 ○星野光男 ○山内辰也日鉱石油化学(株)
「二流体JET洗浄の応用プロセス技術」 →要旨No.37 園田治毅島田理化工業（株）
「臭素系洗浄剤ABZOLのメリット、洗浄事例及び環境測定結果について」○進藤貞雄服部祐一アルベマール浅野（株） ○Joseph H． Miller ALBEMARLE CORPORATION

第6回JICC洗浄技術フォーラム2001

平成13年（2001年）9月13日（木）

東京ビッグサイト　会議棟　6F　607/608号室

特別講演：

「オゾン層保護対策の推進について」河野春彦経済産業省製造産業局オゾン層保護等推進室室長
「化学物質管理促進法（PRTR法）について」坂口正之経済産業省製造産業局化学物質管理課課長補佐
「界面活性剤を使わないで油を油で乳化する」阿部正彦東京理科大学理工学部化学科教授

技術発表Ⅰ：

「PRTR法施行に当たっての洗浄現場の対応策について」 →要旨No.16 平塚豊㈱ダン科学
「光通信関連部品の最新洗浄技術」前野純一荒川化学工業㈱
「Eco-Snow Systems CO2粒子による洗浄技術」 ○氏家敦、阿部寿㈱ユーテック
「オゾンの発生と洗浄への応用」 →要旨No.17 安居院憲彰三菱電機㈱
「エネルギー管理を目的とする超音波による流体計測」阿部啓㈱カイジョー
「超音波洗浄機における騒音発生のﾒｶﾆｽﾞﾑと騒音対策」 →要旨No.18 加藤弘超音波工業㈱
「超大型低温処理用炭化水素系洗浄機」山地信幸㈱三社電機製作所

技術発表Ⅱ：

「不燃性準水系洗浄剤
「ユトルーナ」及びその洗浄システム事例について」 →要旨No.19 望月聡㈱トクヤマ
「ﾏｸﾞﾈｼｳﾑの洗浄とﾉﾝｸﾛﾑ塗装前処理」天田徹ヘンケルジャパン㈱
「地球環境にやさしいNovecä HFEを使用した洗浄方法と事例の紹介」 →要旨No.13 ○安藤伸明、薄井孝史住友ｽﾘｰｴﾑ㈱
「炭化水素系洗浄剤ｾﾞｵﾝｿﾙﾌﾞCP-10とフッ素系洗浄剤ｾﾞｵﾛｰﾗH」 →要旨No.14 大槻記靖日本ゼオン㈱
「新しいフッ素系洗浄剤とその洗浄ﾌﾟﾛｾｽ」 →要旨No.26 滝下和弘島田理化工業㈱
「バートレルâによる精密洗浄」 →要旨No.15 菊池秀明三井･デュポンフロロケミカル㈱
「新規フッ素系洗浄剤"エルノバ"について（仮題）」松本省慈旭化成㈱

第5回JICC洗浄技術フォーラム2000

平成12年（2000年）9月27日（水）

東京ビッグサイト　会議棟　6F　607/608号室

特別講演：

「オゾン層保護対策と地球温暖化対策の推進」河野春彦通商産業省基礎産業局オゾン層保護対策室長
「化学物質管理促進法について」山口隆司通商産業省基礎産業局化学物質管理課班長
「超音波による有機物の分解」中村勇兒国立環境研究所環境研修センター

技術発表Ⅰ：

「韓国における代替洗浄の現況及び産洗協の技術指導現況」金仁奎韓国化学試験研究院
「フッ素系（ﾊﾞｰﾄﾚﾙ）乾燥溶剤の最適使用条件と管理」○菊地秀明岩崎正佳吉田一郎三井ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱
「HFEを使用した洗浄事例の紹介」○安藤伸明薄井孝史住友ｽﾘｰｴﾑ㈱
「フッ素系洗浄剤（ｾﾞｵﾛｰﾗ）を用いた新洗浄システム」田中公章日本ゼオン㈱
「次世代製造工程の創造（無洗浄化への第一歩）」宮鍋征克㈱ﾌｫｰﾁｭﾝｹﾐﾀﾞｯｸｽ
「欧米市場における1-ﾌﾞﾛﾓﾌﾟﾛﾊﾟﾝ（ｱﾌﾞｿﾞｰﾙ）ｸﾘｰﾅｰの使用例」ｽｰﾁｪﾝﾁｬﾝｱﾙﾍﾞﾏｰﾙｺｰﾎﾟﾚｰｼｮﾝ
「炭化水素系洗浄剤（NSｸﾘｰﾝ特殊ﾀｲﾌﾟ）の洗浄事例」星野光男日鉱石油化学㈱

技術発表Ⅱ：

「ｲﾝﾗｲﾝ型量産部品の水系洗浄ｼｽﾃﾑ」山地信幸㈱三社電機製作所
「圧縮深冷凝縮方式を用いた洗浄溶剤ガス回収装置」」佐藤俊彦㈱モリカワ
「ガラス状カーボン比抵抗センサー」田中敦志㈱コス
「金属における洗浄測定･ｺﾝﾀﾐﾈｰｼｮﾝ管理事例の紹介」○野口浩二藤本幸男森合精機㈱
「大型ガラス基板非接触縦型洗浄装置」永田徹三第一施設工業㈱
「M角対応LCD向洗浄装置」嶋田清島田理化工業㈱

第4回JICC洗浄技術フォーラム ’99

平成11年（1999年）9月9日（木）

東京ビッグサイト　会議棟　6F　607/608号室

特別講演：

「最近のオゾン層保護等に関する国内外の動向について」河野春彦通商産業省基礎産業局オゾン層保護対策室
「韓国のオゾン層破壊物質の現況と産洗協による韓国企業に対する洗浄技術現場指導に関して」○金仁奎李東機韓国化学試験研究院
「水のラジカル活性」都田昌之山形大学工学部物質工学科教授

技術発表：

「〈HFE〉（ﾊｲﾄﾞﾛﾌﾙｵﾛｴｰﾃﾙ）を用いた1液洗浄システム」安藤伸明住友スリーエム㈱
「バートレルâ水切乾燥溶剤」○菊池秀明横澤道則三井デュポンフロロケミカル㈱
「最近の超音波洗浄機と精密洗浄」高橋典久㈱カイジョー
「水系洗浄装置・油水分離装置について」杉本武㈱エフエスケー
「超臨界洗浄技術について」南野康信三菱化工機㈱
「炭酸ガス洗浄システムの現状と将来の展望」○三宅英雄高岸秀夫㈱アイテック
「減圧蒸気洗浄システム」北村裕夫ジャパンフィールド㈱

第3回JICC洗浄技術フォーラム ’98

平成10年（1998年）10月14日(水)〜15日（木）

東京ビッグサイト　会議棟　6F　607/608号室

特別講演：

「オゾン層保護活動10年の歩み」桜井俊樹通商産業省基礎産業局オゾン層保護対策室長
「最近の地下水汚染の状況とその対応」油本幸夫環境庁地下水･地盤環境室室長補佐
「洗浄技術の進歩と環境への配慮」神戸徳蔵東京都鍍金工業組合環境科学研究所長
「韓国の洗浄技術の現状」金仁奎 (財)韓国化学試験研究院技術企画課長
「半導体業界における地球温暖化対策」塚田勉アネルバ㈱半導体装置事業部部長代理

セッション1 ユーザーの代替事例等：

「洗浄における塩素系等化学物質の適性管理」猪狩将中小企業事業団化学物質安全対策指導員
「電機電子工業界における洗浄技術の事例」山本芳彦日本電機工業会㈱東芝
「洗浄工程における環境問題への取り組み」中島生朗キャノン㈱
「洗浄分野におけるオゾン層保護対策の国際協力」太田勉セイコーエプソン㈱

セッション2 洗浄剤－1（水系・炭化水素系洗浄剤）：

「ダイレクトパス洗浄システムの洗浄事例」前野純一荒川化学工業㈱ α開発室
「水系洗浄におけるリンス無排水化」塩田堅三菱化学㈱中間体事業部
「不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤」中島政明㈱トクヤマ SECシステム営業部
「炭化水素系洗浄剤の液管理方法について」藤原恒雄日鉱石油化学㈱化成品第二部

セッション3 洗浄剤－2（非水系洗浄剤）：

「非水系洗浄剤SC－52シリーズについて」田中茂実ディップソール(株) テクニカルセンター
「バートレルâ X－GY洗浄溶剤」菊地秀明三井デュポンフロロケ三カル㈱テクニカルセンター
「HFE（ハイドロフルオロエーテル）を用いた洗浄システム」安藤伸明住友スリーエム㈱化学製品事業部
「新フッ素系洗浄剤『ゼオローラ－H』」山田俊郎日本ゼオン㈱開発研究所

セッション4 洗浄機器：

「流水式超音波洗浄機パルスジェット」疋田智美本多電子㈱産業機器事業部
「洗浄・乾燥とその最新技術」野畑博敬島田理化工業㈱システム技術第一部精密装置化学課
「縦型真空洗浄装置」北村裕夫ジャパン・フィールド㈱
「ハロゲン系有機溶剤の回収リサイクル」佐藤俊彦森川産業㈱環境機器部門営業技術ブロック

第2回JICC洗浄技術フォーラム ’97

平成9年（1997年）9月18日(木)〜19日（金）

東京ビッグサイト　会議棟　6F　607/608号室

基調講演：
「洗浄技術の現状と課題」角田光雄文化女子大学家政学部教授

特別講演：

「韓国の代替洗浄技術に関する現況と展望」金仁
「オゾン層保護の歴史的意義」佐分利応貴通商産業省基礎産業局オゾン層保護対策室長補佐
「洗浄剤と洗浄方法の変遷」間宮富士雄間宮技術士事務所長

洗浄剤のNEW WAVE：

「HFEs CFC Alternatives with a Balance of Properties」Tim Koenig 3M Performance Chemicals and Fluids
「Ozone-Friendly-Vertrel Formulations for Precision Cleaning and Speciality Applications」Sung C. Lee Dupont Fluoroproducts Technical Manager
「Albemarle's Abzol Cleaners」Robert L. Smith, Ph. D. Albemarle Corporation

セッション1 現場指導員ユーザーのエタン代替事例：

「洗浄アドバイザーから見た、九州の洗浄転換状況」新田信之中小企業事業団現場指導員 (有)オーディ九州社長
「フラックス無洗浄技術について」石川鉄二日本電子機械工業会富士通㈱
「金属加工の洗浄方法について」柳川敬太日本自動車部品工業会㈱デンソー
「カメラ等精密部品における代替洗浄方式」吉田耿三日本写真機工業会環境部会

セッション2 洗浄剤1（非水系洗浄剤）：

「不燃性の非水系洗浄剤『SC－52シリーズ』について」田中茂実ディップソール㈱テクニカルセンター
「HFEを用いた水切り乾燥システム」矢ノ目秀利住友スリーエム㈱化学製品技術部
「HFEによるコーソルベント洗浄」矢ノ目秀利住友スリーエム㈱化学製品技術部
「バートレルâ溶剤とその用途」菊地秀明三井・デュポンフロロケミカル㈱技術センター
「炭化水素系洗浄剤（ナフテゾール）の効果的使用法」菊田敏郎日本石油化学㈱生産研究所

セッション3 洗浄剤2（非水系・水系洗浄剤）：

「炭化水素系洗浄剤NSクリーンへの代替事例」森本陽士日鉱石油化学㈱化成品第二部
「不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤『ユトルーナ』を用いた洗浄システム応用例」浅田英治㈱トクヤマ SECシステム営業部
「フロン代替プリント基板洗浄剤の研究（2）－クロロカットPC101の特徴と適用事例」小布施洋栗田工業㈱総合研究所
「代替洗浄剤に関する当社の取り組み（2）－導入実施例などについて」気賀澤繁第一工業製薬㈱産業資材事業部化成品研究部

セッション4 洗浄システム：

「半導体パッケージの洗浄」名越英二花王㈱化学品研究所第3研究室1グループ
「ダイレクトパス洗浄システムの洗浄事例」前野純一荒川化学工業㈱アルファ・プロジェクト室
「オゾン水（ヒドロキシラジカル水）を用いた洗浄技術」立幅義人島田理化工業㈱研究開発部技術開発課
「水系洗浄剤『ニッカサンクリーンシリーズ』の特徴と使用事例」向川陽一日華化学㈱研究開発本部精密化学品研究室
「水洗浄における細穴洗浄技術の刷新」半坂俊晴みくに工業㈱技術部主任研究員

第1回JICC洗浄技術フォーラム ’96

平成8年（1996年）2月21日(水)

東京港区芝公園機械振興会館

基調講演：
「CFCを代替する新規フッ素化合物の開発」関屋章物質工学工業技術研究所有機合成化学部フッ素化学研究室長

①ユーザーのフロン・エタン代替洗浄技術、水系洗浄剤：

「カメラ等精密部品における代替洗浄方法について」木村輝三キャノン㈱環境技術センター環境管理部部長
「プリント基板におけるフラックス洗浄目的」田辺一彦日本電気㈱パーソナルワークステーション事業部生産技術部主任
「水系洗浄剤KaseiクリーナーKC700」川島理一郎三菱化成㈱機能化学品カンパニー中間体事業部次長
「代替洗浄剤に関する当社の取り組み」気賀澤繁第一工業製薬㈱産業資材事業部化成品第一研究部
「メンテナンスフリー洗浄剤」北澤宏造花王㈱化学品研究所1研5Gグループリーダー

②ユーザーのフロン・エタン代替洗浄技術、非水系洗浄剤：

「フラックス洗浄における炭化水素系洗浄剤の選定」斉藤茂樹㈱田村製作所技術開発本部材料開発2部開発1課係長
「キーボードスイッチ部品洗浄の脱エタン化」鈴木長㈱IHI 製造部付
「炭化水素系溶剤／パーフルオロカーボンを用いた洗浄システム」町田武志住友スリーエム㈱相模原事業所
「長尺管の炭化水素系洗浄剤によるスプレー洗浄」片山隆夫出光興産㈱営業研究所第一研究室主任
「新洗浄剤『NSクリーン』の優れた特徴と代替成功事例」渡辺勉日鉱石油化学㈱化成品第二部技師長
「シリコーン系洗浄剤の洗浄剤としての特徴」熊谷勝㈱東芝川崎事業所内テクノケア部テクノケア技術担当主務

③団体洗浄剤、水系洗浄剤：

「新しいブラスト剤(固体洗浄剤）」森下悟東ソー㈱ファインケミカル事業部企画開発室参事
「金属部品の洗浄方式」天田徹ヘンケル白水㈱東京技術・生産本部技術部RM課課長
「フロン代替プリント基板洗浄剤の研究－洗浄剤の物性と洗浄効果との関係－」小布施洋栗田工業㈱総合研究所薬品研究グループ新規薬品研究チーム
「クラレの洗浄剤『ソルフィットクリーナー』について」神田宏樹㈱クラレイソプレンケミカル事業本部化学品販売部
「水系ノンリンス洗浄の特徴と実例」小林博司旭化成工業㈱溶剤技術部主査
「不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤『ユトルーナ』」馬場秀治㈱トクヤマ SECシステム営業部主任

④洗浄装置（1）（スプレー洗浄、真空洗浄、超音波洗浄）：

「洗浄機Kシリーズと代替事例」井沢正雄オリンパス光学工業㈱生産技術本部EEプロジェクト課長
「炭化水素系洗浄剤を使用した真空脱脂洗浄装置と応用例」菊地博日本真空技術㈱産業機器事業部脱脂洗浄技術部主事補
「超音波洗浄槽ノ有限要素シミュレーション」安藤英一島田理化工業㈱研究開発部技術開発課課長
「中小企業向のフロン･エタン全廃後の水系超音波洗浄装置の新展開」柴野佳英エス・アンド・シー㈱代表取締役
「直通式洗浄装置『ダイレクトパス』による洗浄方法」前野純一荒川化学工業㈱アルファプロジェクト室主任

⑤洗浄装置（2）（超音波洗浄、洗浄評価、超臨界洗浄）：

「炭化水素系洗浄剤とPFCを組合せた新洗浄剤システム」河場邦夫㈱カイジョー産機システム事業部
「ナフテン系溶剤の温風乾燥その安全性について」秋山正㈱ダン科学研究開発部部長
「フロン・エタンに依存しない新しい洗浄技術」中尾恒彦ジャパン・フィールド㈱福社長
「袋ネジ穴の洗浄」荒川納日本化工機工業㈱研究開発部開発室長
「洗浄剤と乾燥速度」梅木義彦㈱大岩機器工業所開発生産事業本部第二課課長
「超臨界流体を利用した新しい精密洗浄法」南野康信三菱化工機㈱研究開発部研究第1グループ主務

⑥洗浄周辺技術（蒸留、排ガス、排水、新技術）：

「ミリセコンド・フラッシュ法による洗浄油再生回収装置」今井茂博三井物産化学プラント㈱営業本部営業企画室技術統括理事
「洗浄液のリサイクル使用について」岡上公彦リキッドコンサンド㈱取締役社長
「非イオン界面活性剤を用いた水形洗浄のクローズドシステム化」佐藤広昭㈱荏原総合研究所環境研究所主任研究員
「荏原溶剤回収装置」丸山眞策㈱荏原総合研究所環境開発センターEA技術開発部開発二課
「常圧プラズマによる洗浄力向上」西崎和人島田理化工業㈱研究開発部